EDI技術(shù)的出現(xiàn)改變了制備高純水只能采用混床的局面。一般混床工作時需要周期性的再生且再生過程中使用大量的化學(xué)藥品（酸堿）和純水，并造成一定的環(huán)境問題；而膜、樹脂和電化學(xué)原理相結(jié)合的EDI技術(shù)確因?yàn)槠渌|(zhì)穩(wěn)定、容易實(shí)現(xiàn)全自動控制、不會因再生而停機(jī)、不需化學(xué)再生、運(yùn)行費(fèi)用低、廠房面積小、無污水排放等優(yōu)點(diǎn)而被廣泛使用。
采用反滲透預(yù)處理+EDI制作超純水,其電阻率一般可達(dá)到17MΩ.CM以上,工業(yè)上廣泛應(yīng)用于電廠鍋爐、、醫(yī)藥、電子、機(jī)械等工業(yè)領(lǐng)域。
1、反滲透簡介：RO（反滲透）系統(tǒng)的脫鹽率一般在97％以上，反滲透膜的脫鹽率可達(dá)99.8％。通過反滲透膜的處理，水中的無機(jī)鹽類、細(xì)菌、病毒、糖類、氨基酸、COD、BOD等雜質(zhì)被去除，從而達(dá)到純化和濃縮的目的。
2、EDI簡介：EDI可代替?zhèn)鹘y(tǒng)的混合離子交換技術(shù)（MB-DI）生產(chǎn)穩(wěn)定的去離子水。EDI技術(shù)與混合離子交換技術(shù)相比有如下優(yōu)點(diǎn)：
?、偎|(zhì)穩(wěn)定
②容易實(shí)現(xiàn)全自動控制
?、鄄粫蛟偕C(jī)
④不需化學(xué)再生
?、葸\(yùn)行費(fèi)用低
⑥廠房面積小
?、邿o污水排放
EDI設(shè)備一般以反滲透（RO）純水作為EDI給水。RO純水電導(dǎo)率一般是20-2μS/cm（25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)17MΩ.cm(25℃)，但是根據(jù)去離子水用途，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-17MΩ.cm(25℃)的純水。
EDI技術(shù)被制藥工業(yè)、微電子工業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室所普遍接受。在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛。
